0571-85175569
本实用新型涉及晶圆清洗机技术领域，公开了一种用于晶圆加工的晶圆清洗机，包括底座，所述底座的后侧固定连接有水箱，所述水箱的顶部固定连接有水泵，所述水泵的输出端固定连接有第一导水管，所述第一导水管的另一端固定连接在第二导水管的后侧，所述第二导水管的内侧固定连接有若干个喷口，所述底座的顶部左右侧均设置有输送带，所述底座的右侧底部内壁固定连接有烘干箱。本实用新型中，当晶圆通过两侧的输送带间隔处时，随后通过水泵抽取水箱内的清洗液并导入到第一导水管和第二导水管内，随后通过第二导水管内侧的喷口对晶圆进行喷洒清
1.一种用于晶圆加工的晶圆清洗机，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的后侧固
定连接有水箱(12)，所述水箱(12)的顶部固定连接有水泵(11)，所述水泵(11)的输出端固
定连接有第一导水管(10)，所述第一导水管(10)的另一端固定连接在第二导水管(15)的后
侧，所述第二导水管(15)的内侧固定连接有若干个喷口(18)，所述底座(1)的顶部左右侧均
设置有输送带(2)，所述底座(1)的右侧底部内壁固定连接有烘干箱(9)，所述烘干箱(9)的
底部内部固定连接有若干个风扇(22)，所述风扇(22)的顶部设置有加热板(21)，所述烘干
箱(9)的中部顶端固定连接有防护网(17)，所述底座(1)的顶部固定连接有顶盖(5)，所述顶
2.根据权利要求1所述的一种用于晶圆加工的晶圆清洗机，其特征在于：所述第二导水
管(15)的底部设置有收集槽(7)，所述收集槽(7)的底部滑动连接在底座(1)的中部。
3.根据权利要求1所述的一种用于晶圆加工的晶圆清洗机，其特征在于：所述输送带
(2)的前侧中部左右端均固定连接有若干个第一伸缩气缸(8)，所述第一伸缩气缸(8)的杆
4.根据权利要求1所述的一种用于晶圆加工的晶圆清洗机，其特征在于：所述输送带
(2)的顶端中部固定连接有第一固定板(6)，所述第一固定板(6)的后侧左右端均固定连接
5.根据权利要求4所述的一种用于晶圆加工的晶圆清洗机，其特征在于：所述第二伸缩
气缸(19)的杆体固定连接在连接板(4)的中部两侧，所述连接板(4)的底部固定连接有若干
6.根据权利要求5所述的一种用于晶圆加工的晶圆清洗机，其特征在于：所述第二固定
板(13)的均固定连接在第一夹持板(14)的顶部，所述第一夹持板(14)的数量为两块。
7.根据权利要求1所述的一种用于晶圆加工的晶圆清洗机，其特征在于：所述顶盖(5)
[0001]本实用新型涉及晶圆清洗机技术领域，尤其涉及一种用于晶圆加工的晶圆清洗
[0002]晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅，高纯度的多晶硅溶
解后掺入硅晶体晶种，然后慢慢拉出，形成圆柱形的单晶硅，硅片晶圆生产清洗工艺中，使
用清洗机有效去除硅片晶圆表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附
件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性，根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元，各部分
[0003]现有技术中，待清洗的晶圆板固定在晶圆清洗机的清洗台上，通过位于清洗台上
方的喷水头对清洗台上的晶圆板进行冲洗，清洗范围有限，不能对晶圆板的反面进行清洗，
需要反向再次放置晶圆板，使得清洗效率低，并且清洗完成的晶圆需要等待表面水分蒸发
以后才可进行堆叠存放，长时间的晾晒十分影响晶圆后期堆叠或者进行下一步加工的效
[0004]本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种用于晶圆加
[0005]为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种用于晶圆加工的晶圆
清洗机，包括底座，所述底座的后侧固定连接有水箱，所述水箱的顶部固定连接有水泵，所
述水泵的输出端固定连接有第一导水管，所述第一导水管的另一端固定连接在第二导水管
的后侧，所述第二导水管的内侧固定连接有若干个喷口，所述底座的顶部左右侧均设置有
输送带，所述底座的右侧底部内壁固定连接有烘干箱，所述烘干箱的底部内部固定连接有
若干个风扇，所述风扇的顶部设置有加热板，所述烘干箱的中部顶端固定连接有防护网，所
述底座的顶部固定连接有顶盖，所述顶盖的底部内壁右侧固定连接有若干个烘烤灯。
[0007]所述第二导水管的底部设置有收集槽，所述收集槽的底部滑动连接在底座的中
[0009]所述输送带的前侧中部左右端均固定连接有若干个第一伸缩气缸，所述第一伸缩
[0011]所述输送带的顶端中部固定连接有第一固定板，所述第一固定板的后侧左右端均
[0013]所述第二伸缩气缸的杆体固定连接在连接板的中部两侧，所述连接板的底部固定
[0015]所述第二固定板的均固定连接在第一夹持板的顶部，所述第一夹持板的数量为两
[0019]1、本实用新型中，首先，将晶圆放置在输送带表面，随后通过第一伸缩气缸带动第
二夹持板向内侧移动，第二伸缩气缸带动连接板，随后通过连接板带动第二固定板，第二固
定板带动两侧的第一夹持板向内侧移动，通过第一夹持板和第二夹持板对晶圆进行限位，
防止晶圆移动过程中偏移，当晶圆通过两侧的输送带间隔处时，随后通过水泵抽取水箱内
的清洗液并导入到第一导水管和第二导水管内，随后通过第二导水管内侧的喷口对晶圆进
行喷洒清洗，通过上下两侧对晶圆进行冲洗，保证晶圆的清洗效果，提高清洗效率。
[0020]2、本实用新型中，当晶圆清洗完成后，通过右侧的输送带输送至右端，随后通过顶
盖底部设置的烘烤灯对晶圆顶部进行烘干，底部通过烘干箱内的加热板运行产生热量，随
后通过风扇向上吹动，对晶圆底部进行烘干，通过对晶圆两面进行烘干，加快晶圆的晾晒时
[0021]图1为本实用新型提出的一种用于晶圆加工的晶圆清洗机的立体图；
[0022]图2为本实用新型提出的一种用于晶圆加工的晶圆清洗机的后视图；
[0023]图3为本实用新型提出的一种用于晶圆加工的晶圆清洗机的内部结构剖视图；
[0024]图4为本实用新型提出的一种用于晶圆加工的晶圆清洗机的左视内部结构剖视
[0025]图5为本实用新型提出的一种用于晶圆加工的晶圆清洗机的烘干箱剖视图。
[0027]1、底座；2、输送带；3、阻温板；4、连接板；5、顶盖；6、第一固定板；7、收集槽；8、第一
伸缩气缸；9、烘干箱；10、第一导水管；11、水泵；12、水箱；13、第二固定板；14、第一夹持板；
15、第二导水管；16、烘烤灯；17、防护网；18、喷口；19、第二伸缩气缸；20、第二夹持板；21、加
[0028]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行
清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的
实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下
[0029]参照图1‑5，本实用新型提供的一种实施例：一种用于晶圆加工的晶圆清洗机，包
括底座1，底座1用于保证装置的稳定，底座1的后侧固定连接有水箱12，水箱12用于盛放清
洗液，水箱12的顶部固定连接有水泵11，水泵11的输出端固定连接有第一导水管10，第一导
水管10的另一端固定连接在第二导水管15的后侧，第二导水管15的内侧固定连接有若干个
喷口18，通过水泵11抽取水箱12内的清洗液，随后导入第一导水管10与第二导水管15内，随
后通过第二导水管15内的喷口18进行喷洒，对晶圆两面进行清洗，底座1的顶部左右侧均设
置有输送带2，输送带2用于输送晶圆，底座1的右侧底部内壁固定连接有烘干箱9，烘干箱9
用于对晶圆清洗后表面的水分进行烘干，烘干箱9的底部内部固定连接有若干个风扇22，风
扇22的顶部设置有加热板21，通过加热板21加热产生热量，随后通过风扇22向上吹动，可以
对晶圆的底部进行烘干，烘干箱9的中部顶端固定连接有防护网17，防护网17可以防止杂质
等掉落到加热板21表面，防止引起火灾等危险，底座1的顶部固定连接有顶盖5，顶盖5的底
部内壁右侧固定连接有若干个烘烤灯16，烘烤灯16用于对晶圆的顶部进行烘干。
[0030]第二导水管15的底部设置有收集槽7，收集槽7用于收集清洗晶圆时滴落的清洗
液，收集槽7的底部滑动连接在底座1的中部，输送带2的前侧中部左右端均固定连接有若干
个第一伸缩气缸8，第一伸缩气缸8的杆体均固定连接在第二夹持板20的前侧，通过第一伸
缩气缸8带动第二夹持板20向内侧移动可以对晶圆的一侧进行限位，防止晶圆在移动过程
中偏移，输送带2的顶端中部固定连接有第一固定板6，第一固定板6用于固定第二伸缩气缸
19，保证第二伸缩气缸19运行的稳定，第一固定板6的后侧左右端均固定连接有第二伸缩气
缸19，第二伸缩气缸19的杆体固定连接在连接板4的中部两侧，连接板4的底部固定连接有
若干个第二固定板13，第二固定板13的均固定连接在第一夹持板14的顶部，通过第二伸缩
气缸19运行带动连接板4收缩，随后连接板4带动第二固定板13和第一夹持板14向内侧收
缩，可以对晶圆的另一侧进行限位，进一步加强对晶圆的位置固定，第一夹持板14的数量为
两块，顶盖5的底部内壁左右端均固定连接有阻温板3，阻温板3可以防止烘干时的温度散
[0031]工作原理：首先，将晶圆放置在输送带2表面，随后通过第一伸缩气缸8带动第二夹
持板20向内侧移动，第二伸缩气缸19带动连接板4，随后通过连接板4带动第二固定板13，第
二固定板13带动两侧的第一夹持板14向内侧移动，通过第一夹持板14和第二夹持板20对晶
圆进行限位，防止晶圆移动过程中偏移，当晶圆通过两侧的输送带2间隔处时，随后通过水
泵11抽取水箱12内的清洗液并导入到第一导水管10和第二导水管15内，随后通过第二导水
管15内侧的喷口18对晶圆进行喷洒清洗，当晶圆清洗完成后，通过右侧的输送带2输送至右
端，随后通过顶盖5底部设置的烘烤灯16对晶圆顶部进行烘干，底部通过烘干箱9内的加热
板21运行产生热量，随后通过风扇22向上吹动，对晶圆底部进行烘干，通过上述结构的相互
运行可以从上下两侧对晶圆进行冲洗，保证晶圆的清洗效果，提高清洗效率，并且通过对晶
[0032]最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本
实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员
来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征
进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均
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