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嘉兴熙磐微电子申请槽式半导体晶圆清洗机专利晶圆上下表面的洁净度差异缩小-尊龙凯时官方网站

嘉兴熙磐微电子申请槽式半导体晶圆清洗机专利晶圆上下表面的洁净度差异缩小

发布时间:2026-01-25

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  国家知识产权局信息显示,嘉兴熙磐微电子科技有限公司申请一项名为“一种槽式半导体晶圆清洗机”的专利,公开号CN121398505A,申请日期为2025年12月。

  专利摘要显示,本申请公开了一种槽式半导体晶圆清洗机,涉及半导体加工装置技术领域。本申请包括:机体,所述机体内构造有呈阶梯设置的高位水框和低位水框,所述;浸洗机构,包括固定连接在低位水框内的两个浸泡槽,所述浸泡槽内通过升降件可拆卸安装有承载篮,所述承载篮上设置有用于驱动晶圆转动的拨轮件,所述机体内一侧固定安装有位于低位水框上侧的出水槽口,所述机体上安装有进液管,所述进液管一端与出水槽口相连通且另一端与浸泡槽底部相连通。本申请通过拨轮件驱动晶圆在浸泡过程中低速转动,配合U型喷管的定向喷淋辅助晶圆持续转动,可消除清洗盲区,颗粒杂质去除率提高,晶圆上下表面的洁净度差异缩小。

  天眼查资料显示,嘉兴熙磐微电子科技有限公司,成立于2020年,位于嘉兴市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本505万人民币。通过天眼查大数据分析,嘉兴熙磐微电子科技有限公司专利信息10条。

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