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　　ASML二手ARF光刻机AT 1150，193nm，拆卸以及包装已经完成，随时可发货。...

　　ASML 二手翻新DUV光刻机生产于2006年，可针对于300mm尺寸的晶圆进行处理。...

　　人生就是博

　　TWINSCAN XT:450G 365-nm步进式扫描系统是一种高生产率的双级光刻工具，设计用于批量生产分辨率低至 220-nm 及以上的关键 i-line 应用。...

　　XT:1450 是先进的干式 ArF 批量生产系统。它提高了 IC 制造商的所有权价值，在批量制造条件下每小时可生产 143 片晶圆。新的 AERIAL-P 照明器支持高效偏振，加上增强的镜头像差控制和增强的叠加...

　　XT：1400Ei拥有高性能蔡司1400i镜头，拥有从0.65到0.93，此外，湿式系统增加了两倍自由度。...

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　　WINSCAN XT:1250i使用193 nm波长的光，具有数值孔径为0.85的透镜系统。它被描述为预生产光刻扫描仪，标志着在1150i的Twinscan上的一个进步，这是ASML最初的浸入式原型，其数值孔径相对较低，...