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等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的 真空度 ，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的 化学性能 ，如 氧气 的等离子体具有很高的氧化性，能氧化 光刻胶 反应生成气体，从而达到清洗的效果；腐蚀性气体的等离子体具有很好的 各向异性 ，这样就能满足刻蚀的需要。. 利用等离子处理时会发出 辉光 ，故称之为 辉光放电 处理。.
等离子清洗机清洗原理：等离子体是物质的一种存在状态，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下会产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，以达到清洗目的。
等离子清洗机清洗原理是，通过利用等离子体的“活性”组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起会产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，以达到清洗目的。
等离子体和固体、液体或气体一样，是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的活性组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。
等离子清洗机也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。
等离子清洗设备的原理是在真空状态下，压力越来越小，分子间间距越来越大，分子间力越来越小，利用射频电源产生的高压交变电场将氧、氩、氢等工艺气体震荡成具有高反应活性或高能量的离子，然后与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，然后由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁活化的目的
是清洗方法中最为彻底的剥离式清洗，其优势在于清洗后无废液，特点是对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等都能很好地处理，可实现整体和局部以及复杂结构的清洗
物理变化：清除产品表面粉尘和灰尘，起到洁净的作用，但又不像洗洁精一样清除油污和固化污渍。
化学变化：通过离子束刺激产品表面分子结构，打断分子链条，使其变的游离状态，从而使得在印刷和喷码等方面，捏合力更加强。
等离子清洗技术的特点是不分处理对象的基材类型，对金属、半导体和大多数高分子材料，如玻璃、聚、聚酯、聚酰亚胺、环氧、甚至聚四氟等都能很好的清洁处理，并可实现整体和布局以及复杂结构的清洗。对处理物几何形状无限制。
等离子清洗机处理玻璃主要是解决镀膜、喷漆粘接不牢，掉漆方面的问题，经过等离子处理后，可以很好的提高玻璃材料的亲水性，使后续镀膜等工艺达到满意的效果．
等离子体与材料表面产生的物理反应主要是利用离子作纯物理的撞击，把材料表面的原子或附着材料表面的离子打掉，由于离子在压力较低时的平均自由基较轻长，有能量的积累，因而在物理撞击时，离子的能量越高，越容易产生撞击，所以若要以物理反应为主时，就必须控制较低的压力下来进行反应，这样清洗效果较好。
特别是对物体表面形状复杂、精密而又很难清洗的零部件，如精密零部件表面的空穴、凹槽、狭缝、微孔等表面形状均能得到比较好的清洁处理。
等离子清洗属于固气干式清洁技术，采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体介质清洗对被清洗物带来的二次污染。
离子表面处理技术是指采用等离子表面处理机对包装盒表面薄膜、覆膜、UV涂层或者塑料片材进行一定的物理化学改性，提高表面附着力，使它能和普通纸张一样容易粘结。
通过低温等离子体表面处理，材料面发生多种的物理、化学变化。表面得到了清洁，去除了碳化氢类污物，如油脂，辅助添加剂等，或产生刻蚀而粗糙，或形成致密的交联层，或引入含氧极性基团（羟基、羧基），这些基因对各类涂敷材料具有促进其粘合的作用，在粘合和油漆应用时得到了优化。
在同样效果下，应用等离子体处理表面可以得到非常薄的高张力涂层表面，有利于粘结、涂覆和印刷。不需其他机器、化学处理等强烈作用成份来增加粘合性。
3、等离子喷头距离包装盒之间有一定的距离，只有通过喷头把低温等离子喷射到包装盒需要涂胶处，可处理各类复杂形状的包装盒，连续性运作，产品质量稳定。
4、工作中不需要消耗其他燃料，只需接上普通电源即可运行，大大降低包装印刷成本。
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