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金融界2025年4月8日消息，国家知识产权局信息显示，富乐德科技发展（大连）有限公司取得一项名为“一种清洗半导体等离子蚀刻装置气体分压喷淋器表面及气孔内多种沉积物的工艺”的专利，授权公告号 CN 115863132 B，申请日期为2022年11月。
天眼查资料显示，富乐德科技发展（大连）有限公司，成立于2016年，位于大连市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本2000万人民币，实缴资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，富乐德科技发展（大连）有限公司参与招投标项目3次，专利信息77条，此外企业还拥有行政许可82个。
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