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　　槽式清洗机是一种高效、自动化的清洗设备，广泛应用于集成电路、微机电系统（MEMS）和光伏等领域，特别是在化学机械抛光（CMP）后的清洗工艺中。

　　化学清洗：通过将工件浸泡在含有特定化学成分的溶液中，溶解和去除表面的污染物。

　　物理清洗：结合超声波、喷射或兆声波等物理手段，增强清洗效果，去除顽固污渍和微粒。

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　　设备构成：槽式清洗机通常由耐腐蚀机架、酸槽、水槽、干燥槽、控制单元、排风单元以及气体和液体管路单元等部分组成。

　　自动化程度：现代槽式清洗机多为全自动或半自动，具备智能控制系统，可实现准确的工艺参数设置和调整。

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