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　　金融界10月21日消息，有投资者在互动平台向国林科技提问：公司曾在2024年4月15日互动易回复：公司目前在薄膜沉积领域的臭氧专用设备，可以满足7纳米制程以下的半导体设备需求，请问是否属实？该产品目前市场开拓情况如何？是否为同类型国产替代产品？国产化率高吗？公司是否有在研究5nm，3nm更为先进的设备？

　　公司回答表示：公司半导体专用清洗设备可满足多种级别纳米制程的半导体设备需求，目前占公司主营业务收入比重较小；公司半导体专用臭氧清洗设备目前验证一切顺利，如符合重大合同信披标准公司将及时进行披露；公司目前拥有并掌握了半导体行业用臭氧清洗设备制造及设计工艺多项关键技术，受国家政策支持和国外技术封锁限制，国产设备迎来进口替代良好契机，公司将积极把握市场机遇，加快实现国产替代。

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